【仁昌科技創(chuàng)享綠色生活!】一款高新技術(shù)型企業(yè)研發(fā)的革命性產(chǎn)品“無氰堿性鍍銅”
【仁昌科技創(chuàng)享綠色生活!】一款高新技術(shù)型企業(yè)研發(fā)的革命性產(chǎn)品“無氰堿性鍍銅”
環(huán)保電鍍的定義至今仍然未有一個確實的標準,一般而言,環(huán)保電鍍是指在生產(chǎn)過程中,不會危害環(huán)境和人類的安全;在一些國外機構(gòu)也表示,環(huán)保電鍍要符合以下原則:增加安全性、減少廢物和減低環(huán)保污染。因此綜合多方定義和標準,環(huán)保電鍍其實是指安全、低污染的電鍍工藝。在表面處理行業(yè)中,業(yè)界可以避免使用數(shù)種電鍍工藝,從而達致環(huán)保電鍍。
含氰電鍍工藝中的氰是碳和氮的化合物,毒性最強的是氰化合物的氰根,而當氰根在水中與氫結(jié)合,就會形成氰化氫。由于氰化氫是氣體,能夠在空氣中擴散,因此對人體危害性較大。至于六價鉻的毒性較強,當誤入人體,能被人體吸收,容易致癌。因此若要做到環(huán)保電鍍,就要避免使用這兩種電鍍工藝了。
其實在現(xiàn)今市面上,有多種工藝替代有害的電鍍工藝,包括無氰電鍍工藝和三價鉻電鍍工藝。
光亮氰化鍍銅是仁昌科技研發(fā)的一款適用于氰化鍍銅的光亮劑。不論在硬度和顏色選擇上,無氰堿性鍍銅性能可媲美于國外知名品牌,無需氰化鈉,很適用于鋼鐵件、黃銅件、鋁合金、鋅合金工件作底層電鍍,結(jié)合力強,以減低對人類的危害。
氰化鍍銅是由氰化銅,氰化鈉,氫氧化鈉和光劑組成的,氰化銅是供給鍍液銅離子的來源。鍍液中銅離子含量應在37-50g/L.如銅金屬含量在35g/L以下,所用的電流密度(在陰極搖擺方法)不能超越3A/dm2。相反的,當采用高電流密度時,金屬含量也要提高??偫▉碚f,電鍍密度與鍍液中的適當金屬含量,攪拌程度,游離氰化鈉含量,溫度和光亮劑含量等有相互關(guān)聯(lián)。
氰化鈉(NaCN)鍍液中的游離氰化鈉與銅含量的相互關(guān)系。當銅含量為37-50g/L,游離氰化鈉應在15-20g/L之間。所以當游離氰化鈉在10g/L以下,低電流密度區(qū)會起霧,當游離氰化鈉在20g/L以上,陰極電流效率降低,同時陰極會有大量氣體產(chǎn)生。所以游離氰化鈉最佳值隨金屬銅量而定。例如:金屬銅含量為35g/L,而需要用低電流密度時,游離氰化鈉應為12g/L左右。
氫氧化鈉(NaOH)氫氧化鈉可以提高鍍液導電性。如工件為鋅合金鑄件時,氫氧化鈉宜保持在1-3g/L,以免堿度太高而侵蝕鋅合金。如工件全部是鋼鐵件時,氫氧化鈉濃度可調(diào)升至10-30g/L.
RC-CY2光亮劑可增加陽極及陰極的電流效率,防止陽極鈍化,降低陽極溶解速度,使鍍層結(jié)晶平滑細致,同時亦可減低氰化鉀(鈉)的消耗、減慢碳酸鹽的積聚和減輕鉻對鍍液的負面影響。含量應保持于30-50毫升/升。
RC-CY3光亮劑表面活性劑,避免鍍層出現(xiàn)針孔,使高電流密度區(qū)光亮。RC-CY3光亮劑與RC-CY4光亮劑一起使用時,鍍層的高至低電流密度區(qū)能得到全面光亮。
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